5nm蝕刻機上市公司代碼

A. 中國5nm晶元進展到哪步了

在前不久，中微公司就傳來好消息，中國研發的5nm蝕刻機已經通過了客戶的驗證，正式進入了量產的階段，其生產的5nm蝕刻機已經獲得了多家公司的訂單了。其中具有重要意義的是台積電的訂單，台積電是目前全球最先進的晶元生產的廠家，並且計劃在今年下半年實現5nm晶元的產量。

華為擁有了先進的晶元設計能力，現在中微公司已經有了蝕刻機和薄膜沉積設備，現在的我們距離自主生產晶元就只差一個光刻機了，在之前中國際在荷蘭ASML公司訂到了一台EUV光刻機，但是被特朗普知道了這件事情，有持續的向荷蘭政府施加壓力，不允許向中國出口最先進的時光機，所以到現在這個時光機也還沒有運到我們中國來。現在我們距離最先進的晶元就只差一步之遙，我們不得不感嘆中國的科技發展速度真快啊。

B. 5nm刻蝕機入駐台積電，對我國半導體行業產生怎樣的影響eimkt

台積電還是受美國限制，沒辦法，原來說採用30%的美國技術才受限
台積電還可以在這個范圍幫助華為
但是後來美國把這個范圍限制到10%，所以沒辦法了，包括中芯國際都要受這個制約
主要的光刻機生產商 荷蘭光刻機公司asml背後其實也是受美國控制的

C. 晶元的7nm ，5nm是指什麼這個指標為什麼能如此重要

我們平時所講5nm或者7nm說的是晶體管的寬度（也叫線寬），要想做到納米級的電路，工藝難度是很難的。在製造晶體管的國產中涉及到光刻、刻蝕等復雜的加工工藝。台積電就是從阿斯麥爾（ASML）采購了可以加工5nmEUV光刻工藝的光刻機，而中芯國際因為美國的封鎖，從阿斯麥爾（ASML）進口光刻機受阻，所以接下來的5nm工藝推進暫時會遇到很多的困難。

畢竟光刻機是很尖端的科技，ASML雖然是荷蘭的公司，但是背後是整個歐美產業鏈的高端科技的加持。而中芯國際如果面臨封鎖，那麼很多產業都要逐個突破，那難度可想而至知。

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晶元領域從10nm過渡到7nm，進而逐漸邁向5nm，每一次進步都伴隨著晶元性能的極大提升，據計算，晶元每前進1nm，性能將提升30%-60%，尺寸越小意味著在相同的面積之內可以儲存更多的晶體管，從而達到快的運行速度，進而也可以降低能耗。

就難華為麒麟處理器來講吧，麒麟970還是10nm工藝，到了麒麟980時已經是7nm工藝製程，其晶體管數量從970版本的55億上升至69億，增加了25.5%，晶體管數量的增加直接促進了CPU、GPU和NPU性能的提升，從跑分上看，CPU性能提升50%，GPU性能提高100%，NPU性能提升了一倍，可見10nm跟7nm工藝的差距之大，這也正是晶元領域追求更小晶體管的原因。

集成電路對於離散晶體管有兩個主要優勢：成本和性能。成本低是由於晶元把所有的組件通過照相平版技術，作為一個單位印刷，而不是在一個時間只製作一個晶體管。性能高是由於組件快速開關，消耗更低能量，因為組件很小且彼此靠近。2006年，晶元面積從幾平方毫米到350 mm²，每mm²可以達到一百萬個晶體管。

D. 中國有了5nm的光刻機為什麼還要進口14nm光刻機

各有各的用途，製造成本不同。

E. 中科院正式宣布，已研發出5nm光刻技術，距離造成5nm晶元還要多久

製造5nm晶元還要多久，這個時間很難說，為什麼？因為製造5nm晶元我國必須有自己的光刻機。這個機器非常難製造，記得美國用了近二十年的時間才在這方面占據領先位置。現在不同以往，我國追趕的話，要製造5nm晶元長則十年，短則三五年。

綜合來看，5nm晶元沒有三幾年難以實現，不過如果集合很多很多的資源並且可以光刻機，或者國內某個公司創造奇跡，那麼一兩年的時間都有可能。

F. 國內最大的蝕刻廠家有哪些

蝕刻機是目前我國最具優勢的半導體設備領域，中國的蝕刻機龍頭企業中微半導體，也處於業界領先地位。公開資料顯示，中微半導體正式成立於2004年，至今為止已有16年的發展史。中微半導體是全球第一家成功研製出5nm精度蝕刻機的企業，目前該公司的5nm蝕刻機已經通過台積電的驗證。

G. 中國的光刻機與刻蝕機已經達到世界先進水平，為什麼有些人還說中國晶元業依舊前路艱辛

據媒體報道，2018年12月，中微半導體設備（上海）有限公司自主研製的5納米等離子體刻蝕機經台積電驗證，性能優良，將用於全球首條5納米製程生產線。5納米，相當於頭發絲直徑（約為0.1毫米）的二萬分之一，將成為集成電路晶元上的最小線寬。台積電計劃2019年進行5納米製程試產，預計2020年量產。

中國的刻蝕機的確是達到了世界先進水平，光刻機還早，而且就算是這兩樣都世界先進了，不代表中國晶元業的前路就不艱辛了。目前中國的刻蝕機的確領先，5納米等離子體刻蝕機已經通過台積電驗證；但是光刻機就差多了，之前新聞報道中提到的「中科院SP超分辨光刻機」其實最多隻能算是一個「原型機」，和ASML的光刻機不能相提並論，也不能用來製造晶元，還需要攻克一系列的技術難題退一步講，就算是中國的光刻機與刻蝕機都達到世界領先就解決問題了么？ASML的EUV光刻機我們已經下單等待交貨了，是不是到貨以後中國就可以生產7nm甚至是5nm的晶元了不要把問題想簡單了，以為晶元也只有光刻機和刻蝕機。晶元製造的技術、經驗、工藝以及人才是一個系統性的工程，台積電也不是一天建成的，有了光刻機也不代表我們就能造出最頂尖的晶元。

H. 中微半導體5nm真假

中微半導體5nm是誤導性新聞。

某網路媒體未經證實發布了關於 「當所有的巨頭還在為10nm、7nm技術大肆進軍的時候，中國中微正式宣布掌握5nm技術」的誤導性新聞，後經多家媒體轉載造成了不實信息的擴散。

中微公司從未發布上述信息，也從未授權任何媒體機構和個人刊發、轉載此報道。該報道曲解了中微在3月11日CCTV-2《中國財經報道》節目中的采訪內容，節目中提到中微公司的某個機台正在測試5納米工藝。

在采訪報道中，中微董事長兼CEO尹志堯博士表示：「國際上最先進的晶元生產公司像英特爾、台積電、三星，他們的14納米已經成熟生產了，10納米和7納米很快進入生產，所以我們必須超前，5納米今年年底基本上就要定了，現在進展特別快，幾乎一年兩年就一代，所以我們就趕得非常緊。」

實際上，正是中微的客戶——國際一流的集成電路製造廠商，推動了晶元技術和生產一代又一代的進步。中微作為設備公司，是向他們提供可加工先進器件的設備，協助他們實現新一代器件的開發和生產。中微不可能脫離他們的5納米技術開發，而獨立地掌握5納米技術。

中微從事的是半導體高端設備的開發、銷售和售後服務，是一種市場化的商業行為，在國際半導體設備產業，參與產業鏈的合作和競爭也是十分正常的。文章的作者也不應該將這種正常的商務行為過分誇大和渲染，造成不必要的、非商業的敏感性。

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刻蝕機是晶元製造的核心設備，和光刻機的作用是一樣重要的，只不過其不存在技術壁壘，所以不存在一家獨大的局面。

刻蝕機主要用來在晶元上進行微觀雕刻，刻出又細又深的線條和接觸孔，需要注意的是，這些線條和接觸孔的加工精度是頭發絲直徑的幾萬分之一，可見這項工作有多精細，這也對刻蝕機的精度提出了很高的要求，不能有絲毫偏差，而如今中微半導體成功研發出5nm刻蝕機也能夠解決晶元研發中的難題，意義重大。

中微半導體刻蝕機不僅獲得台積電的認可，而且還獲得不少國產廠商的青睞，近日長江存儲就向中微半導體采購9台刻蝕機，接下來中微半導體還將和粵芯、合肥長鑫等多家廠商合作，國產廠商齊心協力，共同打贏這場晶元反擊戰。

I. 哪一巨頭坐擁1016件專利，從65nm升級到5nm

它是中微公司。它成立多年，在蝕刻這個行業中有很高的成就，也有很多的發明專利。