5nm蚀刻机上市公司代码

A. 中国5nm芯片进展到哪步了

在前不久，中微公司就传来好消息，中国研发的5nm蚀刻机已经通过了客户的验证，正式进入了量产的阶段，其生产的5nm蚀刻机已经获得了多家公司的订单了。其中具有重要意义的是台积电的订单，台积电是目前全球最先进的芯片生产的厂家，并且计划在今年下半年实现5nm芯片的产量。

华为拥有了先进的芯片设计能力，现在中微公司已经有了蚀刻机和薄膜沉积设备，现在的我们距离自主生产芯片就只差一个光刻机了，在之前中国际在荷兰ASML公司订到了一台EUV光刻机，但是被特朗普知道了这件事情，有持续的向荷兰政府施加压力，不允许向中国出口最先进的时光机，所以到现在这个时光机也还没有运到我们中国来。现在我们距离最先进的芯片就只差一步之遥，我们不得不感叹中国的科技发展速度真快啊。

B. 5nm刻蚀机入驻台积电，对我国半导体行业产生怎样的影响eimkt

台积电还是受美国限制，没办法，原来说采用30%的美国技术才受限
台积电还可以在这个范围帮助华为
但是后来美国把这个范围限制到10%，所以没办法了，包括中芯国际都要受这个制约
主要的光刻机生产商 荷兰光刻机公司asml背后其实也是受美国控制的

C. 芯片的7nm ，5nm是指什么这个指标为什么能如此重要

我们平时所讲5nm或者7nm说的是晶体管的宽度（也叫线宽），要想做到纳米级的电路，工艺难度是很难的。在制造晶体管的国产中涉及到光刻、刻蚀等复杂的加工工艺。台积电就是从阿斯麦尔（ASML）采购了可以加工5nmEUV光刻工艺的光刻机，而中芯国际因为美国的封锁，从阿斯麦尔（ASML）进口光刻机受阻，所以接下来的5nm工艺推进暂时会遇到很多的困难。

毕竟光刻机是很尖端的科技，ASML虽然是荷兰的公司，但是背后是整个欧美产业链的高端科技的加持。而中芯国际如果面临封锁，那么很多产业都要逐个突破，那难度可想而至知。

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芯片领域从10nm过渡到7nm，进而逐渐迈向5nm，每一次进步都伴随着芯片性能的极大提升，据计算，芯片每前进1nm，性能将提升30%-60%，尺寸越小意味着在相同的面积之内可以储存更多的晶体管，从而达到快的运行速度，进而也可以降低能耗。

就难华为麒麟处理器来讲吧，麒麟970还是10nm工艺，到了麒麟980时已经是7nm工艺制程，其晶体管数量从970版本的55亿上升至69亿，增加了25.5%，晶体管数量的增加直接促进了CPU、GPU和NPU性能的提升，从跑分上看，CPU性能提升50%，GPU性能提高100%，NPU性能提升了一倍，可见10nm跟7nm工艺的差距之大，这也正是芯片领域追求更小晶体管的原因。

集成电路对于离散晶体管有两个主要优势：成本和性能。成本低是由于芯片把所有的组件通过照相平版技术，作为一个单位印刷，而不是在一个时间只制作一个晶体管。性能高是由于组件快速开关，消耗更低能量，因为组件很小且彼此靠近。2006年，芯片面积从几平方毫米到350 mm²，每mm²可以达到一百万个晶体管。

D. 中国有了5nm的光刻机为什么还要进口14nm光刻机

各有各的用途，制造成本不同。

E. 中科院正式宣布，已研发出5nm光刻技术，距离造成5nm芯片还要多久

制造5nm芯片还要多久，这个时间很难说，为什么？因为制造5nm芯片我国必须有自己的光刻机。这个机器非常难制造，记得美国用了近二十年的时间才在这方面占据领先位置。现在不同以往，我国追赶的话，要制造5nm芯片长则十年，短则三五年。

综合来看，5nm芯片没有三几年难以实现，不过如果集合很多很多的资源并且可以光刻机，或者国内某个公司创造奇迹，那么一两年的时间都有可能。

F. 国内最大的蚀刻厂家有哪些

蚀刻机是目前我国最具优势的半导体设备领域，中国的蚀刻机龙头企业中微半导体，也处于业界领先地位。公开资料显示，中微半导体正式成立于2004年，至今为止已有16年的发展史。中微半导体是全球第一家成功研制出5nm精度蚀刻机的企业，目前该公司的5nm蚀刻机已经通过台积电的验证。

G. 中国的光刻机与刻蚀机已经达到世界先进水平，为什么有些人还说中国芯片业依旧前路艰辛

据媒体报道，2018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。

中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片业的前路就不艰辛了。目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证；但是光刻机就差多了，之前新闻报道中提到的“中科院SP超分辨光刻机”其实最多只能算是一个“原型机”，和ASML的光刻机不能相提并论，也不能用来制造芯片，还需要攻克一系列的技术难题退一步讲，就算是中国的光刻机与刻蚀机都达到世界领先就解决问题了么？ASML的EUV光刻机我们已经下单等待交货了，是不是到货以后中国就可以生产7nm甚至是5nm的芯片了不要把问题想简单了，以为芯片也只有光刻机和刻蚀机。芯片制造的技术、经验、工艺以及人才是一个系统性的工程，台积电也不是一天建成的，有了光刻机也不代表我们就能造出最顶尖的芯片。

H. 中微半导体5nm真假

中微半导体5nm是误导性新闻。

某网络媒体未经证实发布了关于 “当所有的巨头还在为10nm、7nm技术大肆进军的时候，中国中微正式宣布掌握5nm技术”的误导性新闻，后经多家媒体转载造成了不实信息的扩散。

中微公司从未发布上述信息，也从未授权任何媒体机构和个人刊发、转载此报道。该报道曲解了中微在3月11日CCTV-2《中国财经报道》节目中的采访内容，节目中提到中微公司的某个机台正在测试5纳米工艺。

在采访报道中，中微董事长兼CEO尹志尧博士表示：“国际上最先进的芯片生产公司像英特尔、台积电、三星，他们的14纳米已经成熟生产了，10纳米和7纳米很快进入生产，所以我们必须超前，5纳米今年年底基本上就要定了，现在进展特别快，几乎一年两年就一代，所以我们就赶得非常紧。”

实际上，正是中微的客户——国际一流的集成电路制造厂商，推动了芯片技术和生产一代又一代的进步。中微作为设备公司，是向他们提供可加工先进器件的设备，协助他们实现新一代器件的开发和生产。中微不可能脱离他们的5纳米技术开发，而独立地掌握5纳米技术。

中微从事的是半导体高端设备的开发、销售和售后服务，是一种市场化的商业行为，在国际半导体设备产业，参与产业链的合作和竞争也是十分正常的。文章的作者也不应该将这种正常的商务行为过分夸大和渲染，造成不必要的、非商业的敏感性。

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刻蚀机是芯片制造的核心设备，和光刻机的作用是一样重要的，只不过其不存在技术壁垒，所以不存在一家独大的局面。

刻蚀机主要用来在芯片上进行微观雕刻，刻出又细又深的线条和接触孔，需要注意的是，这些线条和接触孔的加工精度是头发丝直径的几万分之一，可见这项工作有多精细，这也对刻蚀机的精度提出了很高的要求，不能有丝毫偏差，而如今中微半导体成功研发出5nm刻蚀机也能够解决芯片研发中的难题，意义重大。

中微半导体刻蚀机不仅获得台积电的认可，而且还获得不少国产厂商的青睐，近日长江存储就向中微半导体采购9台刻蚀机，接下来中微半导体还将和粤芯、合肥长鑫等多家厂商合作，国产厂商齐心协力，共同打赢这场芯片反击战。

I. 哪一巨头坐拥1016件专利，从65nm升级到5nm

它是中微公司。它成立多年，在蚀刻这个行业中有很高的成就，也有很多的发明专利。